第299章 加快专利申请(2/4)

这反而证明我们走对了路。”

    “要抢先布局。”李明杰说，“要让业务团队加快专利申请，在全球主要市场同步推进。另外，核心技术资料要做好防护措施。”

    “已经做了。”尹志绕说，“我们采用分段保密方式，将核心技术分割成多个模块，分别存储和管理。任何单一泄露都不会影响整体技术安全。”

    这时，市科技局的工作人员来访，带来了一个好消息：星城市的半导体创新中心即将投用，将为中微提供更好的研发环境。

    “太及时了。”威廉姆斯说，“我们正需要更先进的实验设备。特别是超定位测试平台，对工艺优化至关重要。”

    李明杰立即拨通了哥哥李一凡的电话。作为分管经济的省委常委，他需要了解这一重要进展。

    “技术突破有了，但量产还需要时间。”李明杰简要汇报，“不过最令人欣慰的是，我们找到了一条完全自主的技术路线。”

    “这是关键。”李一凡说，“技术创新不能总是跟在别人后面。要利用这个机会，在新的模仿上实现超越。”

    作为光刻胶研发的领军企业，南大光电与中微的技术突破密切相关。

    “这是最新的测试报告。”南大光电技术总监王立新表示，“我们开发的新型光刻胶，完全匹配中微米的纳米光学系统。不仅提高了分辨率，还提高了曝光效率。”

    “专利布局做的怎么样？”李明杰问。

    “已经在美国、日本、同步申请。”王立新说，“这次我们总结了之前的教训，在配方和工艺上欧洲都做了充分的专利保护。即使是美国企业也别想仿制，同时也加强了我们的专利壁垒。”

    正说着，中科院材料所的专家组来访。他们正在指挥特种气体和高纯靶材的研发，这些都是半导体制造的关键材料。

    “制气吸气技术取得重大突破。”专家组长汇报，“纯度已达到7个9，完全满足28nm程要求。”

    李明杰仔细翻看测试数据：“产量规模如何？”

    “目前月产能3吨，年底可达到10吨。”