第272章 威廉姆斯团队的技术理想(2/4)

现起来难度不小。光刻机对精度的要求比刻蚀机还要高一个数量级。”

    “正因如此，我们才选择了一条全新的技术路线。”威廉姆斯说，“传统光刻机主要依赖波长的种群来精度提升，从深线到极线。但这条路越走越难，成本也越来越高。”

    “我们的光学方案是，通过创新的系统设计和静态曝光技术，在保持现有光源的基础上实现更大的优势。这样不仅能降低技术开销，还能大幅降低成本。”

    听到这里，杨思涵眼前一亮。“这与中微在刻蚀机领域的创新思路不谋而合。当年他们也通过新型改进技术，注意到了美国传统刻蚀机的技术路线，最终实现了突破。”

    “这个创新思路很有价值。”李一凡开口道，“不过我们现在最关心的是时间表。威廉姆斯博士，按照您的规划，从立项到出样机需要多长时间？”

    威廉姆斯在大屏幕上调出一份甘特图：“根据我们的评估，整个项目分三个阶段。第一阶段是基础研发，为期一年，主要是光学系统的原理验证和关键部件的商标。”

    “第二阶段是工程样机，计划用两年时间完成28nm光刻机的质量。这个阶段最关键的是光学系统和精密控制系统的整合。”

    “第三阶段是产品化和工艺提升，目标是在五年内实现14nm光刻机的量产。同时，我们会同步开展更先进工艺的研发。”

    杨思涵若有所思：“这个规划很紧凑。不过第一年的基础研发恐怕还不够。光学系统涉及的技术积累太多，从零开始需要大量的实验验证。”

    “你说得对。”威廉姆斯点头，“所以我们准备采用成品开发策略。光学系统串联三个子系统同时研发：光源系统、光学推理系统和瞄准系统。每个子系统都由一个专门的团队负责。”

    他转向周边的团队成员：“约翰负责光源系统，他在EUV光源领域有十五年经验。马克主攻光学推理系统，负责ASML之前最新一代光刻机的光路设计。詹姆斯方向倾斜系统，是精密控制领域的专家。”

    “那控制系统聚合怎么配合？”杨思涵问道。

    “这就是我